Applied、40億ドルで米国に半導体R&D施設を新設へ - EE Times Japan

Applied Materialsは最大40億米ドルを投じ、米国シリコンバレーの同社敷地内にR&D施設を新設すると発表した。施設では半導体メーカー各社が専用スペースを関連キーワードはありません